在靶材制备完成后，需要将其放入光学镀膜机的靶材室中，并通过加热和电子束轰击等方式，将靶材蒸发成为气态分子。这些气态分子会在真空环境中沉积在基片表面，形成膜层。在进行靶材蒸发时，需